俄罗斯破冰之作：首台光刻机惊艳问世！

　　据 塔斯社 报道，俄罗 俄罗斯首台 光刻机 已经制造完成并正在进行测试。斯破

　　俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）指出，作首该设备可确保生产 350纳米的台光芯片。

　　什帕克告诉媒体：“我们组装并制造了第一台国产光刻机。刻机作为泽廖诺格勒技术生产线的惊艳一部分，目前正在对其进行测试。问世”

　　在全球范围内，俄罗这种复杂程度的斯破设备由几家主要公司组装，其中最大的作首是荷兰的 ASML 公司以及佳能和尼康。

　　目前，台光台积电和三星利用ASML的刻机EUV光刻技术，已经能够生产出精细至3纳米甚至2纳米的惊艳芯片。尽管350纳米的问世芯片技术相较之下显得落后，但它在汽车、俄罗能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。对于受到美西方严厉制裁的俄罗斯半导体产业而言，这一进展无疑是一则喜讯。这意味着，俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破，有望减少对外部技术的依赖，提升国内产业的自主性和竞争力。